研磨抛光设备GNAD-P
  • 加工精度高,TTV≤2 um,RA:≤0.1 nm
  • 适用6寸以下及各类异形晶圆加工
  • 配备清洗槽体及冲洗装置,实现磨抛冲洗一体化
  • 夹具压力精度达到2g/cm²,可订制加压模块
  • 可编辑可存储至少100条工艺程序
  • 具备盘温监控、自动冷却等温度控制功能
  • 可选配蓝牙监控并在线修复盘形

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