荧光玻璃高精度磨抛对比展示

下图展示了医疗行业的荧光玻璃在我司精密磨抛设备加工前后的对比效果。样片的初始状态为：玻璃表面带毛刺，边缘不规整且无反光，初始RA为800nm左右。

客户要求粗糙度RA做到100nm；

荧光玻璃-抛光前

荧光玻璃-抛光后

经过我司高精度磨抛设备的加工后，荧光玻璃表面实现了显著改善：

• 厚度差（TTV）±1μm

• 表面粗糙度（Ra）≈ 20nm

这一结果充分体现了设备在应对复杂初始状态和大幅度形貌差异时的卓越修正能力。

我司磨抛设备不仅适用于荧光玻璃，还广泛覆盖半导体与光电行业常见材料，包括硅片、蓝宝石、玻璃、碳化硅（SiC）、砷化镓（GaAs）、氮化镓（GaN）、磷化铟（InP）等。无论是科研实验还是规模化生产，我们的设备都能保证高效、稳定的精密加工，助力客户实现纳米级平整度与高良率产出。

凭借超高精度、广材料适配性与稳定工艺表现，我司磨抛设备正成为半导体与光学行业客户提升工艺能力与竞争力的理想选择。