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纯化学抛光设备

成熟的半导体材料制备技术,提供全面的研磨、抛光、CMP工艺解决方案

  • CPI300
  • CPI300 纯化学抛光机

    CPI系列纯化学抛光设备由强防腐蚀材料构成,适用于腐蚀抛光溶剂,如溴甲醇,过氧化氢或酸腐蚀剂等。实现无划痕、无橘皮效应的高质量表面抛光。

  • CPI400
  • CPI400 纯化学抛光机

    CPI系列纯化学抛光设备由强防腐蚀材料构成,适用于腐蚀抛光溶剂,如溴甲醇,过氧化氢或酸腐蚀剂等。实现无划痕、无橘皮效应的高质量表面抛光。

  • CPI600
  • CPI600 纯化学抛光机

    CPI系列纯化学抛光设备由强防腐蚀材料构成,适用于腐蚀抛光溶剂,如溴甲醇,过氧化氢或酸腐蚀剂等。实现无划痕、无橘皮效应的高质量表面抛光。

  • CPI-800
  • CPI-800纯化学抛光机

    CPI-800纯化学抛光设备由强防腐蚀材料构成,适用于腐蚀抛光溶剂,如溴甲醇,过氧化氢或酸腐蚀剂等。实现无划痕、无橘皮效应的高质量表面抛光。

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