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CMP设备

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  • ACP600
  • ACP600 精密CMP设备

    精密CMP设备通过化学腐蚀与机械研磨的协同配合作用,实现晶圆表面多余材料的高效去除与全局纳米级平坦化。

  • ACP800
  • ACP800 精密CMP设备

    精密CMP设备通过化学腐蚀与机械研磨的协同配合作用,实现晶圆表面多余材料的高效去除与全局纳米级平坦化。

  • ACP1200
  • ACP1200 精密CMP设备

    精密CMP设备通过化学腐蚀与机械研磨的协同配合作用,实现晶圆表面多余材料的高效去除与全局纳米级平坦化。

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