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晶圆磨抛设备:精度与效率兼备
2025-12-17

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       在碳化硅、氮化镓等硬脆材料的晶圆加工领域,“精度不足则良率低,效率滞后则成本高”是长期困扰企业的难题。传统设备往往陷入“保精度必降效率”的困境,而北京艾姆希半导体科技有限公司(MCF)的晶圆磨抛设备,通过核心技术创新实现了两者的有机统一,成为高端制造企业的核心生产装备。


       纳米级精度控制是艾姆希设备的核心竞争力。针对硬脆材料易崩边、难打磨的特性,设备搭载超声振动加工系统,以20-40kHz的稳定频率实现“微力切削”,将加工损伤层深度控制在9μm以内,远优于传统工艺50μm的水平。配合在线光学检测模块,可实时捕捉晶圆表面状态,将厚度误差精准控制在±1μm,表面粗糙度稳定在Ra≤0.5nm,达到原子级平整标准,完全满足Fan-Out封装等高端制程需求。


       高效加工能力则为产能提升提供坚实支撑。设备采用四马达独立驱动设计,可同时承载48片2英寸晶圆并行加工,针对8英寸碳化硅晶圆,单片加工耗时压缩至45分钟以内,较传统设备效率提升超50%。其智能控制系统内置300余种材料加工参数库,多品种生产时换产时间缩短60%,既适配大规模量产节奏,又满足小批量定制需求。某半导体企业应用数据显示,引入艾姆希设备后,单班晶圆加工量提升30%,连续运行稳定性保持在98%以上。


      精度与效率的平衡,源于设备“硬件+软件”的协同创新。硬件上,高强度合金主轴将径向跳动控制在2μm以内,配合ISO 1级洁净腔体,有效避免颗粒污染导致的精度偏差;软件上,通过多传感器数据融合算法,实时调整研磨力度与进给速度,既保证加工精度又避免无效耗时。研磨液循环系统实现90%回收率,在减少耗材浪费的同时,将崩边率控制在0.5%以下,实现“高精度、高效率、低成本”的良性循环。


      这种双重优势已在实际生产中充分验证。在某碳化硅衬底生产车间,艾姆希设备既将晶圆平整度合格率从78%提升至99%,又使单片加工成本降低22%;在光电企业的蓝宝石衬底加工线,其兼容2-8英寸全规格晶圆的特性,配合高效换产能力,让产线柔性大幅提升。这些应用成果印证了设备对不同场景的适配能力。


     北京艾姆希以技术创新打破精度与效率的对立困局,其晶圆磨抛设备不仅是加工工具的升级,更是企业提升核心竞争力的重要支撑。在硬脆材料加工领域,这种“精准可控、高效稳定”的设备特性,正为高端制造业的高质量发展注入强劲动力。

 


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